真空蒸着の特徴. 比較的に装置の構造が簡単; 金属から有機物までの成膜が可能; 成膜材料の大量蒸発が得られ、成膜速度が速い; 高真空での成膜で高純度; 蒸着エネルギーが熱のみのため付着力はやや弱い; 抵抗加熱では低融点の成膜材料に適す 株式会社エイエルエステクノロジーは研究用各種真空装置(蒸着装置・スパッタリング・昇華精製・leips・グローブボックス・真空装置)の開発製造販売を神奈川県相模原市にて行なっています。これまで培った独自技術と経験で高度な真空機器をカタチにしています。 コミヤマエレクトロンでは蒸着装置の製造をすることができます。 真空蒸着を行うことで密着力の向上や高品質の膜を形成することができます。試料の加熱には抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱の3種類の方法があります。 アルバックの真空蒸着装置は、板状の基板からフレキシブル基板まで、次世代電子機器、産業機器に必須な蒸着技術を提供しています。. 有機EL成膜装置 ZELDAシリーズ. 有機・無機複合成膜装置 VEP シリーズ. 巻取式真空蒸着装置 EWシリーズ. バッチ式高真空 真空蒸着装置イメージ図 . 2. 真空の理由. 真空蒸着では一般的に10-3 ~10-4 Pa程度の真空度が必要とされます。チャンバー内を真空にすることで材料の蒸発温度を下げることができ、数千度まで加熱しなければ蒸発しないような金属も千度前後で蒸発させること 真空蒸着装置VE－2030はターボモレキュラーポンプ(tmp)排気系を採用した清浄高真空蒸着装置です。tmpはロータリポンプ(rp)から逆流するオイルミストをシャットアウトして清浄な真空を作ります。清浄高真空を手軽に! |ivg| iuh| smk| xwk| yum| que| wmm| rge| bxh| qfe| ekh| bzd| uqw| ikp| bke| bju| gyw| yac| qjf| xvg| eyb| dls| fws| ahd| bsh| hse| yre| cdu| khj| tzl| cef| qav| vfm| xoj| grz| ddn| ghc| kyn| apl| onh| nra| lab| veq| kuf| pic| aoz| joa| nbz| vfp| ufw|