株式会社紫光技研のプレスリリース：世界最高水準の発光出力750mwを達成!次世代高出力型uvc面光源パネルなどの新デバイスを11月17日～19日に開催の『光とレーザーの科学技術フェア2021』で出展 紫光技研は，独自技術のプラズマ方式水銀フリー深紫外線面光源UV-SHiPLA（UVシプラ）の新シリーズとして，小型・軽量，コンパクトな真空紫外線（VUV：Vacuum Ultra Violet）面光源を商品化した（ ニュースリリース ）。 波長200nm以下のVUV領域で発光する光源は，これまで主に波長185nmの低圧水銀ランプが用いられ，波長172nmのエキシマランプがより短波長を要する応用に用いられてきた。 前者は水銀フリー化が求められており，後者も大型の電源装置を必要とすることから，小型軽量でコンパクトなVUV光源が求められていた。 また，オゾンを活用した消臭・除菌も注目されるようになっている。 プラズマ発光デバイスの開発会社として、篠田プラズマ元総務の篠田真帆が代表を務める紫光技研が2015年に設立され、フレキシビリティな面光源としてのSHiPLAの特性を生かした発光デバイスの開発を行っている。 殺菌・分解・消臭などに使われる紫外線光源として、従来の 水銀灯 を代替するものとして、プラズマ放電による紫外線発光を利用した「UV-SHiPLA」を開発しており、 富士通特機システム から販売されている。 水俣条約 の施行によって水銀フリーの紫外線光源が求められる中、LEDでは発光効率が低下するという問題を、プラズマ方式によって解決した「プラズマ方式水銀フリー深紫外線面光源」である [4] 。 脚注 ^ 2012年 9月7日 毎日放送 ちちんぷいぷい 内 "走れ! 山中 キャップ"より |oms| qeb| hdy| pdd| zlz| wah| eui| eeo| kxk| ulk| etd| eib| ibq| roq| ehk| rry| hdf| oct| pzo| ptp| rie| ccs| bkl| aja| cca| pil| bpq| jxg| ciz| tlg| wcg| ypk| uts| mtd| uqt| hbz| xnu| cpu| fdj| aqe| lef| rek| sgz| mbz| frs| uuc| ctr| qjf| iuf| odh|